Определение толщин монослойных покрытий, подверженных ионному воздействию, методами РФЭС - PDF (Русский)
© В.П. Афанасьев, Л.Г. Лобанова, Д.Н. Селяков, М.А. Семенов-Шефов, 2023
© В.П. Афанасьев, Л.Г. Лобанова, Д.Н. Селяков, М.А. Семенов-Шефов, 2023
ISSN 1028-0960 (Print)
ISSN 3034-5731 (Online)
Пользователь
Инструменты статьи
Отправить статью по E-mail (Необходимо войти/зарегистрироваться)
Связаться с автором (Необходимо войти/зарегистрироваться)
Отправить статью по E-mail (Необходимо войти/зарегистрироваться)
Связаться с автором (Необходимо войти/зарегистрироваться)
Ключевые слова
атомно-силовая микроскопия
компьютерное моделирование
магнетронное распыление
метод Монте-Карло
микроструктура
морфология поверхности
наночастицы
облучение
оксид цинка
поверхность
растровая электронная микроскопия
рентгеновская дифракция
рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия
рентгеноструктурный анализ
рентгенофазовый анализ
синхротронное излучение
структура
тонкие пленки
фазовый состав
численное моделирование
электронная микроскопия
Подписка
Войти в систему, чтобы проверить подписку
Уведомления
×
Пользователь
Инструменты статьи
Отправить статью по E-mail (Необходимо войти/зарегистрироваться)
Связаться с автором (Необходимо войти/зарегистрироваться)
Отправить статью по E-mail (Необходимо войти/зарегистрироваться)
Связаться с автором (Необходимо войти/зарегистрироваться)
Ключевые слова
атомно-силовая микроскопия
компьютерное моделирование
магнетронное распыление
метод Монте-Карло
микроструктура
морфология поверхности
наночастицы
облучение
оксид цинка
поверхность
растровая электронная микроскопия
рентгеновская дифракция
рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия
рентгеноструктурный анализ
рентгенофазовый анализ
синхротронное излучение
структура
тонкие пленки
фазовый состав
численное моделирование
электронная микроскопия
Подписка
Войти в систему, чтобы проверить подписку
Уведомления
© В.П. Афанасьев, Л.Г. Лобанова, Д.Н. Селяков, М.А. Семенов-Шефов, 2023