Composition and Structure of Ga1 – xNaxAs Nanolayers Produced near the GaAs Surface by Na+ Implantation


Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

The composition and structure of nanodimensional Ga1 – xNaxAs phases produced by implantation of Na+ ions into the near-surface area of GaAs have been studied by Auger electron spectroscopy and fast electron diffraction. It has been found that the thickness of the ternary epitaxial layer is 10–12 nm for ion energy E0 = 20 keV. The composition of the three-layer nanosystems is GaAs–Ga0.5Na0.5As–GaAs.

Авторлар туралы

Kh. Boltaev

Tashkent State Technical University

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: ftmet@rambler.ru
Өзбекстан, Universitetskaya ul. 2, Tashkent, 100095

Zh. Sodikjanov

Tashkent State Technical University

Email: ftmet@rambler.ru
Өзбекстан, Universitetskaya ul. 2, Tashkent, 100095

D. Tashmukhamedova

Tashkent State Technical University

Email: ftmet@rambler.ru
Өзбекстан, Universitetskaya ul. 2, Tashkent, 100095

B. Umirzakov

Tashkent State Technical University

Email: ftmet@rambler.ru
Өзбекстан, Universitetskaya ul. 2, Tashkent, 100095

Қосымша файлдар

Қосымша файлдар
Әрекет
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2017