Thermal lithography of thin films of vanadium dioxide


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Resumo

A technique is proposed for making microareas with sharply different optical and electrical properties in thin films of vanadium dioxide. The technique is based on vacuum annealing of thin films, which results in a yield of oxygen from vanadium dioxide with the formation of an oxygen vacancy in it.

Sobre autores

V. Andreev

Ioffe Physical Technical Institute

Email: v.klimov@mail.ioffe.ru
Rússia, St. Petersburg, 194021

V. Klimov

Ioffe Physical Technical Institute

Autor responsável pela correspondência
Email: v.klimov@mail.ioffe.ru
Rússia, St. Petersburg, 194021

M. Kompan

Ioffe Physical Technical Institute

Email: v.klimov@mail.ioffe.ru
Rússia, St. Petersburg, 194021

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