Спектроскопия малых газовых составляющих неравновесной низкотемпературной плазмы

Обложка

Цитировать

Полный текст

Аннотация

Обсуждаются состояние и перспективы развития методов количественной оптической спектроскопиидля анализа состава малых химически активных составляющих неравновесной плазмы. Возможностиметодов рассматриваются в их сочетании с условиями применимости как для фундаментальных исследований в области физики и химии плазмы, так и для контроля за проведением технологических процессовв реакторах в интересах энергетики, микро- и наноэлектроники, медицины, для создания оптическихпокрытий, генерации активных радикалов и возбуждённых частиц.

Об авторах

Владимир Николаевич Очкин

Физический институт им. П. Н. Лебедева Российской академии наук

Email: ochkinvn@lebedev.ru
ResearcherId: A-8541-2014
доктор физико-математических наук, профессор

Список литературы

  1. Фортов В. Е. (Гл. ред.), Очкин В. Н. (Отв. ред.), Энциклопедия низкотемпературной плазмы Сер. Б Справочные приложения, базы и банки данных, Ч. 1 Оптические свойства низкотемпературной плазмы, т. 3-2, Термодинамические, оптические и транспортные свойства низкотемпературной плазмы, Янус-К, М., 2008, 1
  2. Lochte-Holtgreven W. (Ed.), Plasma Diagnostics, North-Holland, Amsterdam, 1968
  3. Прохоров А. М. (Гл. ред.), Физический энциклопедический словарь, Сов. энциклопедия, М., 1984
  4. Арцимович Л. А., Сагдеев Р. З., Физика плазмы для физиков, Атомиздат, М., 1979
  5. Бернацкий А. В., Кочетов И. В., Очкин В. Н., Физика плазмы, 46 (2020), 783
  6. Griem H. R., Plasma Spectroscopy, McGraw-Hill, New York, 1964
  7. Thorne A., Litzen U., Johansson S., Spectrophysics: Principles and Applications, Springer, Berlin, 1999
  8. Fujimoto T., Plasma Spectroscopy, Clarendon Press, Oxford, 2004
  9. Фриш С. Э. (Отв. ред.), Спектроскопия газоразрядной плазмы, Наука, Л., 1970
  10. Словецкий Д. И., Механизмы химических реакций в неравновесной плазме, Наука, М., 1980
  11. Ochkin V. N., Spectroscopy of Low Temperature Plasma, Wiley-VCH Verlag, Weinheim, 2009
  12. Fantz U., Plasma Sources Sci. Technol., 15 (2006), S137
  13. Chen F. F., Chang J. P., Lecture Notes on Principles of Plasma Processing, Kluwer Acad., Plenum Publ., New York, 2003
  14. Engeln R., Klarenaar B., Guaitella O., Plasma Sources Sci. Technol., 29 (2020), 063001
  15. Peverall R., Ritchie G. A. D., Plasma Sources Sci. Technol., 28 (2019), 073002
  16. Lange H., Bussiahn R., Proc. SPIE, 4460 (2002), 177
  17. Reuter S. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 24 (2015), 054001
  18. Lu X. et al., Phys. Rep., 630 (2016), 1
  19. Reuter S., von Woedtke T., Weltmann K.-D., J. Phys. D, 51 (2018), 233001
  20. Iseki S. et al., Appl. Phys. Express, 4 (2011), 116201
  21. Zhang K. et al., Crit. Rev. Food Sci. Nutr., 59 (2019), 812
  22. Röpcke J. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 15 (2006), S148
  23. Hori M., Goto T., Appl. Surf. Sci., 192 (2002), 135
  24. Podmar'kov Yu. P., Raspopov N. A., Frolov M. P., Proc. SPIE, 4460 (2002), 188
  25. Wang C., J. Anal. At. Spectrom., 22 (2007), 1347
  26. Maity A., Maithani S., Pradhan M., Anal. Chem., 93 (2021), 388
  27. Ochkin V. N. et al., IEEE Trans. Plasma Sci., 26 (1998), 1502
  28. Kiefer J., Ewart P., Prog. Energy Combust. Sci., 37 (2011), 525
  29. Wiese W. L., Smith M. W., Miles B. M., Atomic Transition Probabilities, v. 2, Sodium through Calcium. A Critical Data Compilation (NSRDS-NBS, 22), US Department of Commerce, National Bureau of Standards, Washington, DC, 22
  30. Ochkin V. N., Savinov S. Yu., Sobolev N. N., Electron-Excited Molecules in Nonequilibrium Plasma, N. N. Sobolev, Nova Science Publ., Commack, NY, 1989, 7
  31. Herzberg G., Molecular Spectra and Molecular Structure, v. 1, Spectra of Diatomic Molecules, Van Nostrand, New York, 1951
  32. Herzberg G., Molecular Spectra and Molecular Structure, v. 2, Infrared and Raman Spectra of Polyatomic Molecules, Prentice-Hall, New York, 1945
  33. Глушко В. П. (Отв. ред.), Термодинамические свойства индивидуальных веществ, Наука, М., 1978
  34. Микаберидзе А. А., Очкин В. Н., Соболев Н. Н., J. Quant. Spectrosc. Radiat. Transf., 12 (1972), 169
  35. Летохов В. С. (Отв. ред.), Лазерная аналитическая спектроскопия, Наука, М., 1986
  36. Копылов С. М. и др., Перестраиваемые лазеры на красителях и их применения, Радио и связь, М., 1991
  37. Witteman W. J., Detection and Signal Processing: Technical Realization, Springer, Berlin, 2006
  38. Очкин В. Н., Физика плазмы, 41 (2015), 381
  39. Mitchell A. C. G., Zemansky M. W., Resonance Radiation and Excited Atoms, The Univ. Press, Cambridge, 1934
  40. Герасимов Г. Н. и др., УФН, 162:5 (1992), 123
  41. Лебедева В. В., Энциклопедия низкотемпературной плазмы Сер. Б Справочные приложения, базы и банки данных, Ч. 1 Оптические свойства низкотемпературной плазмы, т. 3-2, Термодинамические, оптические и транспортные свойства низкотемпературной плазмы, Гл. ред. В. Е. Фортов, отв. ред. В. Н. Очкин, Янус-К, М., 2008, 469
  42. Ломаев М. И. и др., УФН, 173 (2003), 201
  43. Hori M., Kondo H., Hiramatsu M., J. Phys. D, 44 (2011), 174027
  44. Sousa J. S., Puech V., J. Phys. D, 46 (2013), 464005
  45. Огурцова Н. Н., Подмошенский И. В., Низкотемпературная плазма. Труды Международного симпозиума по свойствам и применению низкотемпературной плазмы при XX Международном конгрессе по теоретической и прикладной химии (Москва, июль 15 - 17, 1965), Под ред. А. Е. Шейндлина, Мир, М., 1967, 432
  46. Митько C. В. и др., Краткие сообщения по физике ФИАН, 1989, № 11, 47
  47. Wang H. et al., J. Phys. D, 51 (2018), 035203
  48. Kern C. et al., Appl. Opt., 45 (2006), 2077
  49. Тернов И. М., УФН, 165 (1995), 429
  50. Dedrick J. et al., J. Phys. D, 50 (2017), 455204
  51. Hall J. L., Rev. Mod. Phys., 78 (2006), 1279
  52. Udem Th., Holzwarth R., Hänsch T. W., Nature, 416 (2002), 233
  53. Желтиков А. М., УФН, 176 (2006), 623
  54. Багаев С. Н., Чеботаев В. П., УФН, 148 (1986), 143
  55. Adler F. et al., Annu. Rev. Anal. Chem., 3 (2010), 175
  56. Gotti R. et al., J. Chem. Phys., 148 (2018), 054202
  57. Picque N., Hänsch T. W., Nat. Photon., 13 (2019), 146
  58. Griffiths P. R., de Haseth J. A., Fourier Transform Infrared Spectrometry, Wiley-Interscience, Hoboken, NJ, 2007
  59. Telle H. R. et al., Appl. Phys. B, 69 (1999), 327
  60. Zimmermann M. et al., Opt. Lett., 29 (2004), 310
  61. Дианов Е. М., Крюков П. Г., Квантовая электроника, 31 (2001), 877
  62. Schliesser А., Picque N., Hänsch T. W., Nat. Photon., 6 (2012), 440
  63. Weichman M. L. et al., J. Mol. Spectrosc., 355 (2019), 66
  64. Link S. M. et al., Science, 356 (2017), 1164
  65. Shelton R. K. et al., Science, 293 (2001), 1286
  66. Niermann B. et al., J. Phys. D, 45 (2012), 245202
  67. Golkowski M. et al., IEEE Trans. Plasma Sci., 40 (2012), 1984
  68. Durocher-Jean А. et al., J. Phys. D, 54 (2021), 085204
  69. Murnick D. E., Peer B. J., Science, 263 (1994), 945
  70. Chernin S. M., J. Mod. Opt., 48 (2001), 619
  71. Пахомычева Л. А. и др., Письма в ЖЭТФ, 12 (1970), 60
  72. Baev V. M., Latz T., Toshek P. E., Appl. Phys. B, 69 (1999), 171
  73. Очкин В. Н., Распопов Н. А., Энциклопедия низкотемпературной плазмы, Вводный том Кн. 2, Гл. ред. В. Е. Фортов, ред.-сост. А. Ф. Александров и др., Наука, М., 2000, 583
  74. Crosson E. R. et al., Anal. Chem., 74 (2002), 2003
  75. Nikolaev I. V. et al., Spectrochim. Acta A, 66 (2007), 832
  76. Lagunov V. V., Nikolaev I. V., Ochkin V. N., Spectrochim. Acta A, 246 (2021), 119060
  77. Аневский С. И. и др., Энциклопедия низкотемпературной плазмы, Вводный том Кн. 2, Гл. ред. В. Е. Фортов, ред.-сост. А. Ф. Александров и др., Наука, М., 2000, 532
  78. Oda T., Ono R., Proc. SPIE, 4460 (2002), 263
  79. Salmon J. T., Laurendeau N. M., Appl. Opt., 26 (1987), 2881
  80. Andresen P. et al., Appl. Opt., 27 (1988), 365
  81. Niemi K., Schulz-von der Gathen V., Döbele H. F., J. Phys. D, 34 (2001), 2330
  82. Doebele H. F., Niemi K., Sculz-von Der Gathen V., Proc. of the X Intern. Conf. on Laser-Aided Plasma Diagnostics (Fukuoka, Japan, 2001), 71
  83. Elliott D., Scime E., Short Z., Rev. Sci. Instrum., 87 (2016), 11E504
  84. Curry J. J. et al., Proc. of the X Intern. Conf. on Laser-Aided Plasma Diagnostics (Fukuoka, Japan, 2001), 362
  85. Очкин В. Н. и др., УФН, 148 (1986), 473
  86. Ochkin V. N., Preobrazhensky N. G., Shaparev N. Ya., Optogalvanic Effect in Ionized Gas, Lebedev Physical Institute. Foundation for Intern. Scientific and Education Cooperation, distributed by Gordon and Breach, London - Moscow - Amsterdam, 1999
  87. Александров Н. Л., Напартович А. П., УФН, 163:3 (1993), 1
  88. Лебедев В. С., Пресняков Л. П., Собельман И. И., УФН, 173 (2003), 491
  89. Shibagaki K., Sasaki K., J. Phys. D, 41 (2008), 195204
  90. Kim M., AIP Scilight, 21 (2019)
  91. Wu Y., Zhang Z., Appl. Opt., 54 (2015), 157
  92. Лансберг Г. С., Оптика, Наука, М., 1976
  93. Kronig R. de L, J. Opt. Soc. Am., 12 (1926), 547
  94. Kramers H. A., Atti Congresso Int. Fisici, Como (Trans. Volta Centenary Congress, Como), 2 (1927), 545
  95. Киржниц Д. А., УФН, 152 (1987), 399
  96. Engeln R. et al., J. Chem. Phys., 107 (1997), 4458
  97. Westberg J., Wysocki G., Appl. Phys. B, 123 (2017), 168
  98. Gianella M. et al., J. Chem. Phys., 151 (2019), 124202
  99. Miles R. B., Lempert W. R., Forkey J. N., Meas. Sci. Technol., 12 (2001), R33
  100. Boyd R. W., Nonlinear Optics, Academic Press, Boston, 1992
  101. Ахманов С. А., Коротеев Н. И., Методы нелинейной оптики в спектроскопии рассеяния света: Активная спектроскопия рассеяния света, Наука, М., 1981
  102. Животов В. К., Русанов В. Д., Фридман А. А., Диагностика неравновесной химически активной плазмы, Энергоатомиздат, М., 1985
  103. Kiefer J., Ewart P., Prog. Energy Combust. Sci., 37 (2011), 525
  104. Eckbreth A. C., Laser Diagnostics for Combustion Temperature and Species, Gordon and Breach, Amsterdam, 1996
  105. Schrötter H. W., Klöckner H. W., Raman Spectroscopy of Gases and Liquids, Topics in Current Physics, 11, Ed. A. Weber, Springer-Verlag, Berlin, 1979, 123
  106. Regnier P. R., Moya F., Taran J. P. E., AIAA J., 12 (1974), 826
  107. Prior Y., Appl. Opt., 19 (1980), 1741
  108. Nibler J. W., Knighten G. V., Raman Spectroscopy of Gases and Liquids, Topics in Current Physics, 11, Ed. A. Weber, Springer-Verlag, Berlin, 1979, 253
  109. Massabieaux B. et al., J. Phys. France, 48 (1987), 1939
  110. Pealat М. et al., J. Chem. Phys., 82 (1985), 4943
  111. Doerk T. et al., Opt. Commun., 118 (1995), 637
  112. Ono R., J. Phys. D, 49 (2016), 083001
  113. Stauffer H. U. et al., J. Chem. Phys., 145 (2016), 124308
  114. Очкин В. Н., Цхай С. Н., УФН, 173 (2003), 1253
  115. Tskhai S. N. et al., J. Raman Spectrosc., 32 (2001), 177
  116. van der Schans M. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 26 (2017), 115006
  117. Goldberg B. M. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 25 (2016), 045008
  118. Abrams R. L., Lind R. C., Opt. Lett., 2 (1978), 94
  119. Lucht R. P., Farrow R. L., Rakestraw D. J., J. Opt. Soc. Am. B, 10 (1993), 1508
  120. Smith A. P., Astill A. G., Appl. Phys. B, 58 (1994), 459
  121. Tsay S. J. et al., Opt. Lett., 20 (1995), 1725
  122. Nyholm K., Kaivola M., Aminoff C. G., Opt. Commun., 107 (1994), 406
  123. Germann G. J., Rakestraw D. J., Science, 264 (1994), 1750
  124. Reichardt T. A. et al., Appl. Opt., 38 (1999), 6951
  125. Mischler B. et al., Combust. Sci. Technol., 119 (1996), 375
  126. Williams S. et al., J. Am. Chem. Soc., 114 (1992), 9122
  127. Walewski J. et al., Phys. Rev. A, 64 (2001), 063816
  128. Reichardt T. A., Giancola W. C., Lucht R. P., Appl. Opt., 39 (2000), 2002
  129. Alwahabi Z. T. et al., Eur. Phys. J. D, 42 (2007), 41
  130. Sun Z. W. et al., Appl. Phys. B, 101 (2010), 423
  131. Пикалов В. В., Энциклопедия низкотемпературной плазмы, Вводный том Кн. 2, Гл. ред. В. Е. Фортов, ред.-сост. А. Ф. Александров и др., Наука, М., 2000, 563
  132. Биберман Л. М., Воробьев В. С., Якубов И. Т., Кинетика неравновесной низкотемпературной плазмы, Наука, М., 1982
  133. Лебедева В. В., Техника оптической спектроскопии, Изд-во Моск. ун-та, М., 1977
  134. Пикалов В. В., Мельникова Т. С., Томография плазмы, Наука, Новосибирск, 1995
  135. Fujimoto T., Kazantsev S. A., Plasma Phys. Control. Fusion, 39 (1997), 1267
  136. Bergert R., Mitic S., Plasma Sources Sci. Technol., 28 (2019), 115001
  137. Очкин В. Н., Савинов С. Ю., Соболев Н. Н., Электронно-возбужденные молекулы в неравновесной плазме, Труды Физического института им. П.Н. Лебедева, 157, Отв. ред. Н. Н. Соболев, Наука, М., 1985, 6
  138. Бернацкий А. В. и др., Физика плазмы, 41 (2015), 767
  139. Behringer K., Fantz U., New J. Phys., 2 (2000), 23
  140. Wünderlich D., Fantz U., Atoms, 4:4 (2016), 26
  141. Friedl R. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 29 (2020), 015014
  142. Полак Л. С. и др., Экспериментальные и теоретические исследования неравновесных физико-химических процессов, Вып. 2, Отв. ред. Л. С. Полак, Ин-т нефтехим. синтеза им. А.В. Топчиева, М., 1974, 188
  143. Полак Л. С., Неравновесная химическая кинетика и ее применение, Наука, М., 1979
  144. Coburn J. W., Chen M., J. Appl. Phys., 51 (1980), 3134
  145. Bernatskiy A. V., Ochkin V. N., Kochetov I. V., J. Phys. D, 49 (2016), 395204
  146. Lavrov B. P. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 12 (2003), 576
  147. Filippov A. V. et al., Proc. SPIE, 4450 (2002), 285
  148. Takashima S. et al., Appl. Phys. Lett., 75 (1999), 2520
  149. Takeuchi W. et al., J. Appl. Phys., 105 (2009), 113305
  150. Bokor J. et al., Phys. Rev. A, 24 (1981), 612
  151. Magee R. M. et al., Rev. Sci. Instrum., 83 (2012), 10D701
  152. Kulatilaka W. D. et al., Combust. Flame, 137 (2004), 523
  153. Cho D. G., Han J., Moon S. Y., Appl. Phys., 20 (2020), 550
  154. Bernatskiy A. V., Ochkin V. N., Plasma Sources Sci. Technol., 26 (2017), 015002
  155. Elliott D. et al., Rev. Sci. Instrum., 87 (2016), 1E506
  156. Galante M. E., Magee R. M., Scime E. E., Phys. Plasmas, 21 (2014), 055704
  157. Lopaev D. V. et al., J. Phys. D, 50 (2017), 075202
  158. Proshina O. V. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 26 (2017), 075005
  159. Ibbotson D. E., Flamm D. L., Donnelly V. M., J. Appl. Phys., 54 (1983), 5974
  160. Hamann S. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 23 (2014), 045015
  161. Rayar M. et al., J. Appl. Phys., 104 (2008), 033304
  162. Иванов В. В. и др., Физика плазмы, 26 (2000), 1046
  163. Takeda K. et al., J. Phys. D, 46 (2013), 464006
  164. Gessel A. F. H., Grootel S. C., Bruggeman P. J., Plasma Sources Sci. Technol., 22 (2013), 055010
  165. Teslja A., Dagdigian P. J., Chem. Phys. Lett., 400 (2004), 374
  166. Takeda K. et al., J. Phys. D, 52 (2019), 165202
  167. Gragston M. et al., J. Appl. Phys., 125 (2019), 203301
  168. Reuter S. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 21 (2012), 024005
  169. Sirotkin N. A., Khlyustova A. V., Titov V. A., Plasma Chem. Plasma Process., 40 (2020), 187
  170. Flikweert A. J., PhD Thesis, Technische Univ. Eindhoven, Eindhoven, 2008
  171. Tada S. et al., J. Appl. Phys., 88 (2000), 1756
  172. Mazouffre S. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 10 (2001), 168
  173. Kuwano K. et al., J. Appl. Phys., 55 (2016), 086101
  174. Lelevkin V. M., Otorbaev D. K., Schram D. C., Physics of Non-Equilibrium Plasmas, North-Holland, Amsterdam, 1992
  175. Schwabedissen A. et al., J. Phys. D, 34 (2001), 1116
  176. Kogelschatz M., Cunge G., Sadeghi N., J. Phys. D, 37 (2004), 1954
  177. Franzke J., Stancu D. G., Niemax K., Spectrochim. Acta B, 58 (2003), 1359
  178. Aramaki M. et al., Jpn. J. Appl. Phys., 44 (2005), 6759
  179. Rousseau A., Teboul E., Sadeghi N., Plasma Sources Sci. Technol., 13 (2004), 166
  180. Wu S. et al., Jpn. J. Appl. Phys., 52 (2013), 071301
  181. Benedikt J. et al., J. Appl. Phys., 94 (2003), 6932
  182. Arkhipenko V. I., Simonchik L. V., Proc. SPIE, 4450 (2002), 1
  183. Urabe K. et al., J. Phys. D, 43 (2010), 095201
  184. Cadot G. et al., IEEE Trans. Plasma Sci., 42 (2014), 10
  185. Winter J. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 24 (2015), 025015
  186. Niermann B. et al., Eur. Phys. J. D, 60 (2010), 489
  187. Ferreira C. M., Tatarova E., Proc. SPIE, 4450 (2002), 99
  188. Schroter S. et al., J. Phys. D, 46 (2013), 464009
  189. Es-sebbar Et. et al., J. Appl. Phys., 126 (2019), 073302
  190. Gazeli K. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 27 (2018), 065003
  191. Hoskinson A. R. et al., J. Appl. Phys., 119 (2016), 233301
  192. Modiano S. H. et al., Appl. Opt., 35 (1996), 21
  193. Hubner S. et al., J. Appl. Phys., 113 (2013), 143306
  194. Kaupe J., Coenen D., Mitic S., Plasma Sources Sci. Technol., 27 (2018), 105003
  195. Penache M. C., Dissertation zur Erlangung des Doktorgrades der Naturwissenschaften, Univ. in Frankfurt am Main, Frankfurt am Main, 2002
  196. Makabe T., J. Phys. D, 52 (2019), 213002
  197. Quandt E., Kraemer I., Dobele H. F., Europhys. Lett., 45 (1998), 32
  198. Quandt E. et al., Appl. Phys. Lett., 72 (1998), 2394
  199. Grangeon F. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 8 (1999), 448
  200. Pandey A. et al., Plasma Phys. Control. Fusion, 61 (2019), 065003
  201. Fantz U., Wünderlich D., New J. Phys., 8 (2006), 301
  202. Agnello R. et al., Nucl. Fusion, 60 (2020), 026007
  203. Ohkubo T. et al., Proc. SPIE, 4450 (2002), 318
  204. Welzel S. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 20 (2011), 015020
  205. Kulatilaka W. D. et al., Opt. Lett., 31 (2006), 3357
  206. Pipa A. V. et al., J. Phys. D, 41 (2008), 194011
  207. Pipa A. V. et al., J. Phys. D, 45 (2012), 085201
  208. Smith J. A. et al., J. Appl. Phys., 92 (2002), 672
  209. Lempert W. R., Combust. Flame, 73 (1988), 89
  210. Hibert C. et al., J. Appl. Phys., 85 (1999), 7070
  211. Dilecce G. et al., J. Phys. D, 45 (2012), 125203
  212. Martini L. M. et al., Plasma Process. Polym., 11 (2014), 232
  213. Очкин В. Н., Савинов С. Ю., Соболев Н. Н., Журн. прикладной, 26 (1977), 900
  214. Verreycken T. et al., J. Phys. D, 46 (2013), 464004
  215. Winter H. T. et al., J. Phys. D, 47 (2014), 285401
  216. Verreycken T. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 22 (2013), 055014
  217. Wang C. et al., Appl. Spectrosc., 58 (2004), 734
  218. Kim S. et al., Meas. Sci. Technol., 14 (2003), 1662
  219. Li Z. S. et al., Opt. Lett., 33 (2008), 1836
  220. Трубачеев Э. А., Газовые лазеры и их применение, Труды Физического института им. П.Н. Лебедева, 102, Отв. ред. Н. Н. Соболев, Наука, М., 1977, 3
  221. Hempel F. et al., Mol. Phys., 101 (2003), 589
  222. Luque J., Juchmann W., Jeffries J. B., J. Appl. Phys., 82 (1997), 2072
  223. Juchmann W., Luque J., Jeffries J. B., Appl. Opt., 39 (2000), 3704
  224. Wills J. B. et al., J. Appl. Phys., 92 (2002), 4213
  225. Engeln R. et al., Chem. Phys. Lett., 310 (1999), 405
  226. Booth J.-P. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 29 (2020), 115009
  227. Busch C., Moller I., Soltwisch H., Plasma Sources Sci. Technol., 10 (2001), 250
  228. Zimmermann S. et al., Microelectron. Eng., 88 (2011), 671
  229. Hempel F. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 21 (2012), 055001
  230. Hamann S. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 22 (2013), 055022
  231. Puth A. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 29 (2020), 035001
  232. Susuki C., Sasaki K., Kadota K., Jpn. J. Appl. Phys., 37 (1998), 5763
  233. Cunge G., Kogelschatz M., Sadeghi N., Plasma Sources Sci. Technol., 13 (2004), 522
  234. Lang N. et al., Jpn. J. Appl. Phys., 50 (2011), 08JB04
  235. Бернацкий А. В., Лагунов В. В., Очкин В. Н., Ядерная физика и, 10 (2019), 151
  236. Бернацкий А. В., Лагунов В. В., Очкин В. Н., Квантовая электроника, 49 (2019), 157
  237. Lopatik D. et al., Contrib. Plasma Phys., 52 (2012), 864
  238. Vinogradov I. P., Dinkelmann A., Lunk A., J. Phys. D, 37 (2004), 3000
  239. Hubner M. et al., Appl. Phys. Lett., 106 (2015), 031102
  240. Marinov D. et al., J. Phys. D, 45 (2012), 175201
  241. Керимкулов М. А. и др., Письма в ЖЭТФ, 54 (1991), 212
  242. Hempel F. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 12 (2003), S98
  243. Ropcke J. et al., Plasma Chem. Plasma Process., 19 (1999), 395
  244. Lombardi G. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 13 (2004), 27
  245. Mechold L. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 10 (2001), 52
  246. Wu Y. et al., Appl. Phys. B, 111 (2013), 391
  247. Sick V., Bui-Pham M. N., Farrow R. L., Opt. Lett., 20 (1995), 2036
  248. Ouaras K., Righetti F., Cappelli M. A., J. Phys. D, 52 (2019), 195202
  249. Penetrante B. M. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 6 (1997), 251
  250. Kim Y. et al., Appl. Phys. Lett., 87 (2005), 011502
  251. Winter J. et al., J. Phys. D, 45 (2012), 385201
  252. Schulz-von der Gathen V. et al., Contrib. Plasma Phys., 47 (2007), 510
  253. Ono R., Oda T., J. Phys. D, 37 (2004), 730
  254. Reuter S. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 21 (2012), 034015
  255. Moiseev T. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 23 (2014), 065033
  256. Schmidt-Bleker A. et al., J. Phys. D, 47 (2014), 145201
  257. Hübner M. et al., Rev. Sci. Instrum., 82 (2011), 093102
  258. Laroche G. et al., Rev. Sci. Instrum., 83 (2012), 103508
  259. Chatain A. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 29 (2020), 085019
  260. Campargue A., Romanini D., Sadeghi N., J. Phys. D, 31 (1998), 1168
  261. Escribano R., Campargue A., J. Chem. Phys., 108 (1998), 6249
  262. Boogaarts M. G. H. et al., Chem. Phys. Lett., 326 (2000), 400
  263. Lang N. et al., IEEE Trans. Plasma Sci., 37 (2009), 2335
  264. Gianella M. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 27 (2018), 095013
  265. Klose S.-J. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 29 (2020), 085011
  266. Starikovskaia S. M. et al., Proc. SPIE, 4450 (2002), 63
  267. Akishev Yu. S. et al., Proc. SPIE, 4450 (2002), 90
  268. Foissac C. et al., J. Phys. D, 33 (2000), 2434
  269. Sadeghi N., Foissac C., Supiot P., J. Phys. D, 34 (2001), 1779
  270. Stancu G. D. et al., J. Phys. Chem. A, 114 (2010), 201
  271. Jans E. R. et al., J. Mol. Spectrosc., 365 (2019), 111205
  272. Hancock G. et al., J. Phys. D, 39 (2006), 1846
  273. Пазюк В. С. и др., Квантовая электроника, 34 (2001), 363
  274. Sousa J. S. et al., Appl. Phys. Lett., 93 (2008), 011502
  275. Sousa J. S. et al., Eur. Phys. J. Appl. Phys., 47 (2009), 22807
  276. Gupta M. et al., Chem. Phys. Lett., 400 (2004), 42
  277. Sousa J. S. et al., J. Appl. Phys., 109 (2011), 123302
  278. Kotterer M., Conceicao J., Maier J. P., Chem. Phys. Lett., 259 (1996), 233
  279. Yalin A. P. et al., Plasma Sources Sci. Technol., 11 (2002), 248
  280. Pan F., Oka T., Phys. Rev. A, 36 (1987), 2297
  281. Liu K. et al., J. Phys. D, 54 (2021), 065201

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML
Скачать

Согласие на обработку персональных данных с помощью сервиса «Яндекс.Метрика»

1. Я (далее – «Пользователь» или «Субъект персональных данных»), осуществляя использование сайта https://journals.rcsi.science/ (далее – «Сайт»), подтверждая свою полную дееспособность даю согласие на обработку персональных данных с использованием средств автоматизации Оператору - федеральному государственному бюджетному учреждению «Российский центр научной информации» (РЦНИ), далее – «Оператор», расположенному по адресу: 119991, г. Москва, Ленинский просп., д.32А, со следующими условиями.

2. Категории обрабатываемых данных: файлы «cookies» (куки-файлы). Файлы «cookie» – это небольшой текстовый файл, который веб-сервер может хранить в браузере Пользователя. Данные файлы веб-сервер загружает на устройство Пользователя при посещении им Сайта. При каждом следующем посещении Пользователем Сайта «cookie» файлы отправляются на Сайт Оператора. Данные файлы позволяют Сайту распознавать устройство Пользователя. Содержимое такого файла может как относиться, так и не относиться к персональным данным, в зависимости от того, содержит ли такой файл персональные данные или содержит обезличенные технические данные.

3. Цель обработки персональных данных: анализ пользовательской активности с помощью сервиса «Яндекс.Метрика».

4. Категории субъектов персональных данных: все Пользователи Сайта, которые дали согласие на обработку файлов «cookie».

5. Способы обработки: сбор, запись, систематизация, накопление, хранение, уточнение (обновление, изменение), извлечение, использование, передача (доступ, предоставление), блокирование, удаление, уничтожение персональных данных.

6. Срок обработки и хранения: до получения от Субъекта персональных данных требования о прекращении обработки/отзыва согласия.

7. Способ отзыва: заявление об отзыве в письменном виде путём его направления на адрес электронной почты Оператора: info@rcsi.science или путем письменного обращения по юридическому адресу: 119991, г. Москва, Ленинский просп., д.32А

8. Субъект персональных данных вправе запретить своему оборудованию прием этих данных или ограничить прием этих данных. При отказе от получения таких данных или при ограничении приема данных некоторые функции Сайта могут работать некорректно. Субъект персональных данных обязуется сам настроить свое оборудование таким способом, чтобы оно обеспечивало адекватный его желаниям режим работы и уровень защиты данных файлов «cookie», Оператор не предоставляет технологических и правовых консультаций на темы подобного характера.

9. Порядок уничтожения персональных данных при достижении цели их обработки или при наступлении иных законных оснований определяется Оператором в соответствии с законодательством Российской Федерации.

10. Я согласен/согласна квалифицировать в качестве своей простой электронной подписи под настоящим Согласием и под Политикой обработки персональных данных выполнение мною следующего действия на сайте: https://journals.rcsi.science/ нажатие мною на интерфейсе с текстом: «Сайт использует сервис «Яндекс.Метрика» (который использует файлы «cookie») на элемент с текстом «Принять и продолжить».