Формирование наноструктур на поверхности пленок алюминий–кремний бомбардировкой низкоэнергетическими ионами аргона плазмы индукционного ВЧ-разряда

Бачурин В. И.; Амиров И. И.; Лобзов К. Н.; Симакин С. Г.; Смирнова М. А.

Formation of Nanostructures on the Surface of Aluminium—Silicon Films by Bombardment with Low-Energy Argon Ions of Inductive RF Discharge Plasma - PDF (Russian)

Согласие на обработку персональных данных

Используя сайт https://journals.rcsi.science, я (далее – «Пользователь» или «Субъект персональных данных») даю согласие на обработку персональных данных на этом сайте (текст Согласия) и на обработку персональных данных с помощью сервиса «Яндекс.Метрика» (текст Согласия).

TOP

Username
Password
Remember me

Forgot password?	Register

Username
Password
Remember me

Forgot password?	Register

No 8 (2025)

No 8 (2025)

Formation of Nanostructures on the Surface of Aluminium—Silicon Films by Bombardment with Low-Energy Argon Ions of Inductive RF Discharge Plasma - PDF (Russian)