MBE Growth and Structural Properties of GaP and InP Nanowires on a SiC Substrate with a Graphene Layer


Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

The possibility in principle of the MBE (molecular-beam epitaxy) growth of GaP and InP nanowires on a SiC substrate with a graphene layer is demonstrated for the first time. InP nanowires on such a substrate have no stacking faults and possess an ideal crystallographic quality. At the same time, GaP nanowires have structural defects of the type of twins and the reversal of crystallographic phases at the top and at the base. The results of structural measurements demonstrate that the nanowires are formed in the wurtzite phase, which is not typical of bulk III–V materials.

Об авторах

P. Alexeev

Ioffe Institute

Email: moment92@mail.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

G. Cirlin

ITMO University; St. Petersburg Academic University, Russian Academy of Sciences; Institute for Analytical Instrumentation, Russian Academy of Sciences; Peter the Great St. Petersburg Polytechnic University

Email: moment92@mail.ru
Россия, St. Petersburg, 197101; St. Petersburg, 194021; St. Petersburg, 190103; St. Petersburg, 195251

R. Reznik

ITMO University

Автор, ответственный за переписку.
Email: moment92@mail.ru
Россия, St. Petersburg, 197101

K. Kotlyar

St. Petersburg Academic University, Russian Academy of Sciences

Email: moment92@mail.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

I. Ilkiv

St. Petersburg Academic University, Russian Academy of Sciences

Email: moment92@mail.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

I. Soshnikov

St. Petersburg Academic University, Russian Academy of Sciences; Institute for Analytical Instrumentation, Russian Academy of Sciences; Ioffe Institute

Email: moment92@mail.ru
Россия, St. Petersburg, 194021; St. Petersburg, 190103; St. Petersburg, 194021

S. Lebedev

Ioffe Institute

Email: moment92@mail.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

A. Lebedev

Ioffe Institute

Email: moment92@mail.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

D. Kirilenko

Ioffe Institute

Email: moment92@mail.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2018

Согласие на обработку персональных данных

 

Используя сайт https://journals.rcsi.science, я (далее – «Пользователь» или «Субъект персональных данных») даю согласие на обработку персональных данных на этом сайте (текст Согласия) и на обработку персональных данных с помощью сервиса «Яндекс.Метрика» (текст Согласия).