Nanostructure Growth in the Ga(In)AsP–GaAs System under Quasi-Equilibrium Conditions


Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

The formation of nanostructures on the surface of GaAs under quasi-equilibrium conditions in a quasi-closed volume from saturated phosphor and indium vapors in the presence of a Au catalyst with growth according to the “vapor–liquid–crystal” mechanism is considered for the first time. The influence of the growth temperature and size of Au drops on the morphology and composition of the fabricated nanostructures is studied. Experimental data on the formation of Ga(In)AsP nanocrystals on GaAs substrates with various orientations are presented. It is established that the temperature growth range of the nanostructures when using this method is 540–640°C with a drop size from 30 to 120 nm. It is shown that the size of the catalyst drops substantially affects the morphology and growth rate of the fabricated nanostructures while their composition weakly depends on both the drop size and the substrate orientation.

Об авторах

L. Karlina

Ioffe Institute

Автор, ответственный за переписку.
Email: Karlin@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

A. Vlasov

Ioffe Institute

Email: Karlin@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

I. Soshnikov

Ioffe Institute; St. Petersburg Academic University, Russian Academy of Sciences; Institute of Analytical Instrument Making, Russian Academy of Sciences

Email: Karlin@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021; St. Petersburg, 195220; St. Petersburg, 190103

I. Smirnova

Ioffe Institute

Email: Karlin@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

B. Ber

Ioffe Institute

Email: Karlin@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

A. Smirnov

Ioffe Institute

Email: Karlin@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2018

Согласие на обработку персональных данных

 

Используя сайт https://journals.rcsi.science, я (далее – «Пользователь» или «Субъект персональных данных») даю согласие на обработку персональных данных на этом сайте (текст Согласия) и на обработку персональных данных с помощью сервиса «Яндекс.Метрика» (текст Согласия).