Отправить статью по E-mail Lithography and Plasma Treatment Effect on Conductivity of Carbon Nanotubes
- Авторы: Mitin D.M.1,2, Raudik S.A.1, Mozharov A.M.3, Bolshakov A.D.1, Fedorov V.V.1, Nepokh V.V.1, Rajanna P.M.4, Nasibulin A.G.4, Mukhin I.S.1,3
-
Учреждения:
- Saint Petersburg Academic University
- Ioffe Institute
- ITMO University
- Skolkovo Institute of Science and Technology
- Выпуск: Том 53, № 14 (2019)
- Страницы: 1926-1928
- Раздел: Nanostructures Characterization
- URL: https://journal-vniispk.ru/1063-7826/article/view/207523
- DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782619140148
- ID: 207523
Цитировать
Открытый доступ
Доступ предоставлен
Только для подписчиков
Аннотация
Transparency and sheet resistance measurements of transferred CNT film on glass substrate were performed. Effect of optical lithography and plasma treatment processes on CNT film sheet resistance was analyzed. CNT film demonstrates good electrical conductivity and chemical stability to post-growth processing techniques. The maximum increase in the sheet resistance of the CNT film after optical lithography and plasma treatment processes is no more than 7%.
Ключевые слова
Об авторах
D. Mitin
Saint Petersburg Academic University; Ioffe Institute
Автор, ответственный за переписку.
Email: mitindm@mail.ru
Россия, St. Petersburg, 194021; St. Petersburg, 194021
S. Raudik
Saint Petersburg Academic University
Автор, ответственный за переписку.
Email: s.raudik@gmail.com
Россия, St. Petersburg, 194021
A. Mozharov
ITMO University
Автор, ответственный за переписку.
Email: mozharov@spbau.ru
Россия, St. Petersburg, 197101
A. Bolshakov
Saint Petersburg Academic University
Автор, ответственный за переписку.
Email: acr1235@mail.ru
Россия, St. Petersburg, 194021
V. Fedorov
Saint Petersburg Academic University
Автор, ответственный за переписку.
Email: vfedorov.fl@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021
V. Nepokh
Saint Petersburg Academic University
Автор, ответственный за переписку.
Email: vneplox@gmail.com
Россия, St. Petersburg, 194021
P. Rajanna
Skolkovo Institute of Science and Technology
Автор, ответственный за переписку.
Email: pramod.rajanna@skolkovotech.ru
Россия, Moscow, 121205
A. Nasibulin
Skolkovo Institute of Science and Technology
Автор, ответственный за переписку.
Email: a.nasibulin@skoltech.ru
Россия, Moscow, 121205
I. Mukhin
Saint Petersburg Academic University; ITMO University
Автор, ответственный за переписку.
Email: imukhin@yandex.ru
Россия, St. Petersburg, 194021; St. Petersburg, 197101
Дополнительные файлы
