Electrochemical Deposition of Permalloy Films for Magneto-Semiconductor Microsystems


Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

The results of investigating local electrochemical deposition from a chloride electrolyte are presented. Ni81Fe19 permalloy films with magnetic properties similar to those of 3D samples with a uniform thickness and low mechanical stresses without high-temperature annealing are obtained. The dependences of the rate of congruent deposition of the permalloy on the current density are presented.

Авторлар туралы

V. Amelichev

SMS “Technological Center”

Email: R.Tikhonov@tcen.ru
Ресей, Zelenograd, Moscow, 124498

S. Polomoshnov

SMS “Technological Center”; National Research University “MIET”

Email: R.Tikhonov@tcen.ru
Ресей, Zelenograd, Moscow, 124498; Zelenograd, Moscow, 125993

N. Nikolaeva

SMS “Technological Center”

Email: R.Tikhonov@tcen.ru
Ресей, Zelenograd, Moscow, 124498

R. Tikhonov

SMS “Technological Center”

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: R.Tikhonov@tcen.ru
Ресей, Zelenograd, Moscow, 124498

M. Kupriyanova

SMS “Technological Center”

Email: R.Tikhonov@tcen.ru
Ресей, Zelenograd, Moscow, 124498

Қосымша файлдар

Қосымша файлдар
Әрекет
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2017